半導体用フォトレジスト

• 半導体デバイス製造時に基板の表面に高密度・高集積の回路パターンを形成する工程で使われる感光性樹脂液

• 独自の合成・設計技術を生かし、微細加工に必要な高性能化を実現
  

• お客様のニーズに応じて幅広いラインナップをご用意しています
  ➡露光光源：ｉ線、KrF、ArF及びEB
  ➡タイプ：ポジ型／ネガ型
  ➡膜厚：1μm以下から数十μm